4、集成电路制造工艺中，以下不是热氧化方法的是： 。
A．干氧氧化
B．湿氧氧化
C．离子氧化
D．水蒸汽氧化
填空题集成电路制造工艺技术主要包括：热工艺、（）、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。
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判断题光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。A 对B 错
填空题集成电路制造中掺杂类工艺有（）和（）两种。
问答题热氧化工艺有哪些？
判断题双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。A 对B 错
问答题集成电路制造工艺中，主要有哪两种隔离工艺？目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器件隔离工艺，为什么？
问答题列举IC芯片制造过程中热氧化SiO2的用途？
